致力于提供全方面的硅片解決方案（我們專注于全球頂級(jí)硅片的進(jìn)出口，提供半導(dǎo)體硅片單面/雙面拋光、減薄、切割、MEMS等加工和定制服務(wù)）
致力于提供半導(dǎo)體設(shè)備、配件的系統(tǒng)化優(yōu)化解決方案（代理和銷售國際知名品牌半導(dǎo)體設(shè)備及配件，F(xiàn)AB端和切割研磨端設(shè)備）
硅片純度： 11N （99.999999999%）
外形尺寸： 2” 3” 4” 5” 6” 8” 12”
晶向 ：P、N (100)(110)(111)
表面：單拋 雙拋 熱氧化 氮化 鍍金 鍍鉑 鍍銅 鍍鋁
氧化層厚度(常規(guī)尺寸):
Dia50.8× 0.4毫米
Dia76.2× 0.4毫米
Dia100× 0.5毫米
Dia150× 0.625毫米
Dia200× 0.725毫米
Dia300× 0.775毫米
電阻率：重?fù)降? <0.05ohm.cm
低摻：1~10 ohm.cm 10~30ohm.cm
本征高阻： > 1000ohm.cm
>3000ohm.cm
> 5000ohm.cm
> 10000ohm.cm
> 20000ohm.cm
以上均可按用戶使用要求定制
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